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哈工大的“高速超精密激光干涉仪”技术根据官方介绍,哈工大的“高速超精密激光干涉仪”技术突破了核心测量方法和工程化关键技术,在该领域解决了测不准、测不精、测不快的核心难题。该技术用于确保掩膜工作台、双工作台和物镜系统之间复杂的相对位置,实现光刻机的整体套刻精度。然而,就像物理课本上常说的“要获得更小的波长,需要更高的技术层次”,想要实现7nm芯片,其实还需要攻克很多技术难关。
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光刻机的核心部分要理解光刻机技术,首先需要了解光刻机的核心部分。通常,光刻机由三个核心部分组成:光源、物镜系统和工作台