光刻机是芯片制造行业的主要载体。他的工作原理是在硅片上涂上一层均匀的光刻胶，然后利用紫外线照在上面，其中还包含了编码，把需要刻制的东西编码完成，用光刻技术刻到上面。从而达到保存的效果。光刻机上面是光照部，中间是掩膜版，最后是需要刻制的载体。
光刻机发展至今，目前已经有了很多种形式，但工作原理大同小异，没什么区别。而且国内现在已经有了自主产权，发展前景很不错。
蚀刻机与光刻机比起来就有些粗糙了，他是直接把内容刻在载体上，对载体表面进行侵蚀从而达到刻录的目的。目前国内的蚀刻机有两种，干刻和湿刻，但是工作原理都相同，利用离子与电压的结合，达到刻录的目的。
总的来说，两种刻制方式都是主流的形式，如果选择的话完全是根据自己的需求。只能说两种都不会让人失望。
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